一、超聲波清洗機(jī)工藝流程
研磨后的清洗：
研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要過程。研磨過程中的主要污染物是研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)在加工過程中會(huì)有漆片。其中，研磨粉的型號(hào)不同，一般為堿金屬氧化物，主要是二氧化鈦。根據(jù)鏡片的材料和研磨精度，選擇不同型號(hào)的研磨粉。研磨過程中使用的瀝青起到保護(hù)作用，防止拋光鏡被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種：
一種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。
有機(jī)溶劑清洗的清洗工藝如下:
有機(jī)溶劑清洗劑(超聲波)-水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-純水漂洗-IPA(異丙醇)脫水-IPA慢拉干燥。
有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青和漆片。過去，三氯乙烷或三氯乙烯主要用于溶劑清洗劑。由于三氯乙烷是ODS（臭氧層消耗物質(zhì)）產(chǎn)品，目前正處于強(qiáng)制淘汰階段；長期使用三氯乙烯容易導(dǎo)致職業(yè)病，由于三氯乙烯不穩(wěn)定，容易水解酸性，會(huì)腐蝕鏡片和設(shè)備。為此，國內(nèi)清潔劑制造商開發(fā)生產(chǎn)了一系列非ODS溶劑清潔劑，可用于清潔光學(xué)玻璃；該系列產(chǎn)品具有不同的物理化學(xué)指標(biāo)，可有效滿足不同設(shè)備和工藝條件的要求。例如，在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中，鏡片表面有一層難以處理的漆片，需要特殊溶解的有機(jī)溶劑；部分企業(yè)清洗設(shè)備溶劑清洗槽冷凝管少，自由程短，需要揮發(fā)慢的有機(jī)溶劑；另一些企業(yè)需要快速揮發(fā)。
水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑的清洗能力很弱，鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上在水基清洗單元中去除，對(duì)水基清洗劑的要求很高。過去，由于國內(nèi)光學(xué)玻璃專用水基清洗劑品種較少，許多外國企業(yè)選擇進(jìn)口清洗劑。目前，國內(nèi)公司已開發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑，并已成功應(yīng)用于國內(nèi)多家大型光學(xué)玻璃制造商。清洗效果可以完全取代進(jìn)口產(chǎn)品，優(yōu)于腐蝕性（防腐性能）等指標(biāo)的進(jìn)口產(chǎn)品。
對(duì)于IPA慢拉干燥，需要注意的是，一些類型的鏡后容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度和空氣濕度有關(guān)，另一方面與清潔設(shè)備有很大的關(guān)系，特別是手臂干燥效果明顯不如單臂干燥好，需要設(shè)備制造商和用戶注意這一點(diǎn)。
二、半水基清洗采用的清洗工藝如下
半水基清洗劑(超聲波)-市水沖洗-市水沖洗-純水沖洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥。
與溶劑清洗相比，這種清洗工藝最大的區(qū)別在于前兩個(gè)清洗單元：有機(jī)溶劑清洗僅對(duì)瀝青或漆片有良好的清洗效果，但不能清洗研磨粉等無機(jī)物質(zhì)；半水基清洗劑不同，不僅能清洗瀝青等有機(jī)污染物，而且對(duì)研磨粉等無機(jī)物質(zhì)有良好的清洗效果，大大降低了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度慢，氣味小。第一個(gè)清洗單元中使用半水基清洗劑的設(shè)備不需要密封、冷凝、蒸餾和回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度大，對(duì)后續(xù)工藝中使用的水基清洗劑有乳化作用，第二個(gè)單元必須用城市水沖洗，最好設(shè)置為水沖洗。
國內(nèi)應(yīng)用這一工藝的企業(yè)并不多，其中一個(gè)原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口，價(jià)格比較貴。
從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝與溶劑清洗工藝基本相同。這里不再重復(fù)了。
三、有機(jī)溶劑清洗與半水基清洗
溶劑清洗是一種更傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，效率高，溶劑本身可不斷蒸餾回收，但缺點(diǎn)明顯，由于光學(xué)玻璃生產(chǎn)環(huán)境需要恒溫恒濕，是封閉車間，溶劑氣味會(huì)對(duì)工作環(huán)境產(chǎn)生一定的影響，特別是使用不封閉的半自動(dòng)清洗設(shè)備。
半水基清洗是近年來逐步發(fā)展和成熟的一種新工藝，在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上得到了改進(jìn)。有效避免溶劑的一些弱點(diǎn)，無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)，設(shè)備配套設(shè)備少，使用周期比溶劑長，運(yùn)行成本低于溶劑。半水基清洗劑最突出的優(yōu)點(diǎn)之一是對(duì)研磨粉等無機(jī)污染物具有良好的清洗效果，大大降低了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運(yùn)行成本。
它的缺點(diǎn)是清洗速度比溶劑慢，必須沖洗。
涂層前清洗：
涂層前清洗的主要污染物是核心油（也稱為磨邊油，核心也稱為核心。核心，是指為了獲得規(guī)定的半徑和核心精度而選擇的過程）。指紋?；覊m等。由于涂層過程對(duì)鏡片清潔度的要求非常嚴(yán)格，因此清潔劑的選擇非常重要。在考慮某種清潔劑的清潔能力的同時(shí)，也要考慮其腐蝕性等問題。
涂層前的清洗一般與研磨后的清洗方法相同，分為溶劑清洗和半水基清洗。工藝流程和化學(xué)品類型如上所述。
涂層后清洗：
一般包括油漆前的清潔。組裝前的清潔和組裝前的清潔，包括組裝前的清潔（組合是指用光敏膠將兩個(gè)鏡頭粘在規(guī)定的形狀上，以滿足無法一次加工成型的需要，或創(chuàng)造更特殊的曲率。透光率的過程）是最嚴(yán)格的要求。接頭前清洗的污染物主要是灰塵。手印等混合物，清洗不難，但對(duì)鏡片表面清潔度要求很高，其清洗方法與前兩種清洗工藝相同。
